Reactive sputter deposition process of Al₂O₃ and characterization of a novel high plasma density pulsed magnetron discharge


Karol Macák
Bok Engelsk 1999
Utgitt
Linköping : Thin Film Physics Division, Department of Physics and Measurement Technology, Linköpings universitet , 1999
Omfang
69, [77] s. : ill.
Opplysninger
Avhandling (fil. dr.) - Linköpings tekniska högskola, 1999
Emner
ISBN
9172196130

Bibliotek som har denne