Deep ion implantation for bipolar silicon devices : investigations into the use of the third dimension


door Antoni Johan Mouthaan
Bok Språk ikke angitt 1986
Utgitt
[S.l.] : [s.n.] , [1986]
Omfang
127 s. : ill.
Opplysninger
Avh. (doktorgrad) - Technische Hogeschool Twente, 1986.
Emner

Bibliotek som har denne