Dopant depth distribution in In-doped Si grown by molecular beam epitaxy


Johan Knall
Bok Engelsk 1985
Utgitt
Linköping : Universitetet i Linköping, Inst. för fysik och mätteknik , 1985
Omfang
1 b. (flere pag.) : ill.
Emner
ISBN
9173729418

Bibliotek som har denne